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新闻公告
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微电子光致抗蚀剂的发展及应用
魏玮, 刘敬成, 李虎, 穆启道, 刘晓亚
Development and Application of Microelectronic Photoresist
Wei Wei, Liu Jingcheng, Li Hu, Mu Qidao, Liu Xiaoya
化学进展 . 2014, (11): 1867 -1888 .  DOI: 10.7536/PC140729