微电子光致抗蚀剂的发展及应用

魏玮, 刘敬成, 李虎, 穆启道, 刘晓亚

化学进展 ›› 2014, Vol. 26 ›› Issue (11) : 1867-1888.

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化学进展 ›› 2014, Vol. 26 ›› Issue (11) : 1867-1888. DOI: 10.7536/PC140729
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微电子光致抗蚀剂的发展及应用

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Development and Application of Microelectronic Photoresist

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