微电子光致抗蚀剂的发展及应用

魏玮, 刘敬成, 李虎, 穆启道, 刘晓亚

化学进展 ›› 2014, Vol. 26 ›› Issue (11) : 1867-1888.

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化学进展 ›› 2014, Vol. 26 ›› Issue (11) : 1867-1888. DOI: 10.7536/PC140729 CSTR: 32298.14.PC140729
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微电子光致抗蚀剂的发展及应用

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Development and Application of Microelectronic Photoresist

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2014, 26(11): 1867-1888 https://doi.org/10.7536/PC140729
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2014, 26(11): 1867-1888 https://doi.org/10.7536/PC140729
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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