用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的合成及其进展

孟诗云,李光宪,杨其,黄亚江

化学进展 ›› 2004, Vol. 16 ›› Issue (02) : 243.

PDF(122 KB)
English
往期目录
新闻公告
More
PDF(122 KB)
化学进展 ›› 2004, Vol. 16 ›› Issue (02) : 243.
综述与评论

用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的合成及其进展

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Progress in the Synthesis of Poly(4-Hydroxystyrene) for Polymer Photoresists

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

本文二维码

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2004, 16(02): 243
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2004, 16(02): 243
中图分类号：

参考文献

列表( 原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序 ) 可视化分析

参考文献

{{article.reference}}

基金


编委：
主编：
责任编辑：
编辑:

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(122 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章

/

〈 〉