类石墨烯二硫化钨薄膜的化学气相沉积法制备及其应用

尤运城, 曾甜, 刘劲松, 胡廷松, 台国安

化学进展 ›› 2015, Vol. 27 ›› Issue (11) : 1578-1590.

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化学进展 ›› 2015, Vol. 27 ›› Issue (11) : 1578-1590. DOI: 10.7536/PC150433 CSTR: 32298.14.PC150433
综述与评论

类石墨烯二硫化钨薄膜的化学气相沉积法制备及其应用

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Chemical Vapor Deposition and Application of Graphene-Like Tungsten Disulfide

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