MOCVD生长铁电氧化物薄膜MO源研究进展

孔祥蓉,刘俊亮,曾燕伟

化学进展 ›› 2005, Vol. 17 ›› Issue (05) : 839-846.

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MOCVD生长铁电氧化物薄膜MO源研究进展

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Advances in Research of Metallorganic Precursors for Ferroelectric Oxide Thin Films via MOCVD

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2005, 17(05): 839-846
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2005, 17(05): 839-846
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
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