超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展

张树永,郭永榔,曹宝成,于新好

化学进展 ›› 2000, Vol. 12 ›› Issue (01) : 103.

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综述与评论

超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展

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Progress of Aqueous Solution Cleaning Technology for SiliconWafer in VLSICircuit Fabrication

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